三源高真空蒸發鍍膜儀，設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉、加熱，所有操作均通過觸控屏集成控制。設備的真空泵組為兩級式真空系統，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環境；真空系統內含有完善的氣動閥系統，用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現抽取真空、不停機取放樣、完全停機等操作。

三源高真空蒸發鍍膜儀詳情介紹：

 本設備的蒸發源共三組，采取鎢舟蒸發源，水冷式銅電極，可*大支持260A的大電流，加熱溫度*高可達1800℃，可實現多種難熔金屬的蒸鍍，三組獨立熱蒸發源，不會導致鍍材互相污染。本設備采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計，真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規避了誤操作的可能。該設備設計完善性能優越，是實驗室高精度蒸發鍍膜試驗的必備之選。

 三源高真空蒸發鍍膜儀應用領域：

金屬和介電膜

薄膜傳感器的制造

光學元件

納米與微電子

太陽能電池

 三源高真空蒸發鍍膜儀技術參數：

三源高真空蒸發鍍膜儀
樣品臺	尺寸	*大支持φ150mm樣品
	功能	可旋轉，*高加熱500℃
蒸發源	數量	鎢舟x3
電源	每個蒸發源配一組獨立電源；三個蒸發源共三組獨立電源
真空腔體	腔體尺寸	φ300x400mm
	觀察窗口	前置φ100mm
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	前開門式
膜厚控制（選配）	晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀
真空系統	前級泵	雙極旋片泵
	抽氣接口	KF16
	次級泵	渦輪分子泵
	抽氣接口	CF160
	真空測量	電阻+電離 復合真空規
	排氣速率	機械泵1.1L/s 分子泵 600L/s
	極限真空	1.0E-5Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	旋片泵：1.1L/S
控制系統	PLC自動控制 操作界面：觸控屏+操作面板 （觸摸屏可控制沉積過程和快速數據輸入；用戶友好 PLC 軟件系統，可以通過網絡更新）
其他	供電電壓	AC380V,50Hz
	整機尺寸	1000mm X 800mm X 1500mm
	整機功率	5kW
	整機重量	350kg