本設備為多源高真空蒸發鍍膜儀，設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉、加熱及升降，所有操作均通過觸控屏集成控制。設備的真空泵組為兩級式真空系統，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環境；真空系統內含有完善的氣動閥系統，用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現抽取真空、不停機取放樣、完全停機等操作。

本設備的蒸發源共兩組，采取鎢舟蒸發源，水冷式銅電極，可*大支持300A的大電流，加熱溫度*高可達3000℃，可實現多種難熔金屬的蒸鍍。本設備采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計，真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規避了誤操作的可能。該設備設計完善性能優越，是實驗室高精度蒸發鍍膜試驗的必備之選。

名稱	多源高真空蒸發鍍膜儀
特點	蒸發源共兩組， 采取鎢舟蒸發源，加熱溫度*高可達3000℃，可實現多種難熔金屬的蒸鍍 腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離 真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作 通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作
技術參數	樣品臺： *大支持φ150mm樣品 高度 上下70mm可調 蒸發源： 鎢舟x2  真空腔體： 腔體材料 304不銹鋼，尺寸 φ300x400mm 觀察窗口 前置φ100mm含遮光片，開啟方式 前開門式 膜厚控制：晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀 真空系統： 前級泵 雙極旋片泵 抽氣接口 KF16 次級泵 渦輪分子泵 抽氣接口 CF160 真空測量 電阻+電離 復合真空規                  排氣速率 機械泵1.1L/s， 分子泵 600L/s； 抽氣速率 旋片泵：1.1L/S  極限真空 1.0E-5Pa   供電電源 AC 220V 50/60Hz 流量計：一路質量流量計 500sccm Ar氣 控制系統： PLC自動控制 操作界面：觸控屏+操作面板
規格	供電電壓 AC380V,50Hz 整機功率 5kW 整機重量 350kg 整機尺寸 1000mm X 800mm X 1500mm