0371-5536 5392 0371-5519 9322
本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點。真空腔體整體采用下置靶設計，濺射效果好，雜質污染少，能*大限度的保護樣品。
桌面型靶下置型磁控鍍膜技術參數：
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CY-MSP180S-DC-GU |
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樣品臺 |
尺寸 |
φ100mm |
加熱 |
*高500℃ |
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轉速 |
0-20可調 |
安裝方式 |
上置于腔體上蓋，樣品安裝為夾持式 |
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磁控濺射靶 |
數量 |
2” x1 下置安裝與腔體下法蘭 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 215mm |
觀察窗口 |
前置式 φ60mm |
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腔體材料 |
SS304 |
開啟方式 |
上頂開式 |
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真空系統 |
機械泵 |
旋片泵 |
抽氣接口 |
KF16 |
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分子泵 |
渦輪分子泵 |
抽氣接口 |
KF40 |
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真空測量 |
電阻規+電離規 |
排氣接口 |
KF16 |
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極限真空 |
1.0E-4Pa |
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
機械泵1.1L/s 分子泵60L/s |
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電源配置 |
數量 |
直流電源 x1 |
*大輸出功率 |
直流電源300W |
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其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
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整機功率 |
2kW |
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