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等離子增強型化學氣相淀積（PECVD）是化學氣相淀積的一種，其特點是在低溫下利用等離子體的激活作用來增強化學氣相沉積反應。這種方法的優(yōu)點是沉積溫度低，沉積速率快，而且制得的薄膜具有優(yōu)良的電學性能、良好的襯底附著性以及**的臺階覆蓋性。
PECVD氣相沉積應用領(lǐng)域：
等離子增強CVD系統(tǒng)可以用于：石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗場所。可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、**裝飾等領(lǐng)域，PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應用
技術(shù)參數(shù)：
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型號 |
TN-PECVD-200SST |
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腔體尺寸 |
φ500- |
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溫區(qū)長度 |
200 |
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射頻電源 |
500W- |
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溫度 |
1000℃- |
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前級泵 |
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顯示類型 |
T |
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溫區(qū) |
I- |
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水冷機 |
CW5200 |
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腔體材質(zhì) |
SS |
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樣品加熱加熱溫度 |
RT-1000℃以上，溫控精度：±1°C，采用控溫表進行控溫； 可調(diào)轉(zhuǎn)速：1-20rpm可調(diào) |
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噴淋頭尺寸 |
Φ90mm，噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續(xù)可調(diào)（可根據(jù)工藝調(diào)整），并帶有標尺指數(shù)顯示 |
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樣品臺 |
直徑200mm |
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沉積工作真空 |
0.133-133Pa（可根據(jù)工藝調(diào)整） |
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頂部法蘭 |
可通過馬達提升，基板更換方便，有可視口 |
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基板臺 |
基板臺的線性和方位角運動，基板加熱和溫度控制，安裝臺和觸摸屏控制，基板線性運動是手動控制的，基板旋轉(zhuǎn)是由直流電動機控制的 |
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真空腔體 |
前開門式，φ500mm X 500mm 不銹鋼材質(zhì) |
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觀察窗 |
φ100mm 帶擋板 |
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質(zhì)量流量計 |
六路質(zhì)量流量計 |
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氣路數(shù)量 |
六路 |
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承壓范圍 |
-0.15Mpa~0.15Mpa |
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量程 |
0~100 SCCM（氧氣） 0~100 SCCM（CF4） 0~200 SCCM （SF6） 0~200 SCCM （氬氣） 0~500 SCCM （其他氣體空氣） 0-500sccm （其他氣體氮氣） |
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流量控制范圍 |
±1.5% |
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氣路材料 |
304不銹鋼 |
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管道接口 |
6.35mm卡套接頭 |
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真空系統(tǒng) |
前級泵：無油真空泵4.7L/S 分子泵：1200L/S |
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測量范圍 |
1×10-5～1×105Pa |
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測量精度 |
1×10-5～1×10-4Pa ±40%的讀數(shù) 1×10-4～1×105Pa ±20%的讀數(shù) |
