全自動多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜，半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成；可同時交替涂覆兩種薄膜，兩種液體各交替*多500次，實現千層薄膜的涂覆。本機可用于酸、堿性涂覆溶液的涂膜制備。設備標配不同尺寸的真空吸盤，可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤，利用真空吸附的方式固定基片。該機主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。

勻膠機主要特點：

1、真空吸附方式固定樣件，操作簡便。

2、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片。

3、根據樣件規格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。

4、電機采用24V直流無刷電機，可靠性高，適應性強，維修與保養簡單，噪音低，震動小，運轉平穩，啟動快速穩定，加速后運行平穩，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。

5、采用無油真空泵，體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。

6、腔體采用聚四氟乙烯材質，使用壽命更長，耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能；機身采用鈑金結構，結實耐用且質輕。

7、加熱后可通氣體進行快速冷卻。

8、中文操作界面（全英文操作系統可選）

9、具有開蓋保護功能，當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止。

10、控制界面采用觸摸屏控制，操作簡單方便，顯示直觀。

11、全自動的涂膜過程：自動滴膠、自動通氣、自動旋涂、自動烘干。

12、可兩種液體交替涂膜，*多可涂1000層薄膜。

旋涂儀技術參數：

產品名稱	TN-SPC-100ML全自動多層鈣鈦礦旋轉涂層機
產品型號	TN-SPC-100ML
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地。 3、氣：壓縮氣體貨自行規定的保護氣體 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×900mm，承重50kgs以上
主要參數	1、電源：主機24V   蠕動泵24V   加熱：220V  50HZ        2、功率：總功率1200W     加熱：1350W 3、旋轉轉速：500-10000rpm(*小增量為1rpm。) 4、運行程序：該機每次涂膜可分AB兩組運行程序完成，每組程序分為六段運行，每組程序可循環500次，兩組程序*多可涂1000層薄膜。 5、增減速率設置范圍：10rpm/s-2000rpm/s(增量為10的整數倍) 6、加熱功能： 加熱范圍：RT-200℃（腔體采用耐熱耐腐蝕的聚四氟材質）(碳纖維加熱管) 7、聚四氟真空吸盤和鋁制吸盤，規格：1英寸，2英寸，4英寸。
產品規格	8、產品規格： ·尺寸：旋涂機450x400x580mm;蠕動泵270x310x280mm； ·重量：50kg