超高純氫氣發生器運用先進且 **擁有的100% 鈦金屬質子交換膜(PEM) 技術， 將去離子水中的氫氣分離并提純，為CVD設備提 供超高純的氫氣氣源。

獨特的設計讓運行更加穩定可靠，并保證更長的 使用壽命。發生器可24小時連續穩定地工作，開 機時自動檢查內部泄漏，自動控制裝置的運行參 數，保證**啟動。

觸摸屏LCD界面提供簡單且清晰可見的運行信息， 讓用戶便捷地掌控和管理發生器。

氫氣發生器產品特點 :

鈀催化劑降低O2＜0.01ppm，水分＜1ppm，氫氣純度可達99.99999%（7N）

**冷雙動態再生干燥器：去除水分和氧 氣，無需監控、更換和購買干燥劑筒，無需 加熱

通過USB進行遠程PC監控和診斷分析，將設備與客戶的PC軟件連接（需要通過遠程連接，才能有效地進行檢查和維護）壓力高達11bar(160psi)

顯示水質狀態：當水質變“**＂時及時出現報警提示

聯機產氫：可以通過軟件控制實現多臺發生 器并聯產氫(集中供氣)，提供穩定的流量和壓力、自動分配氫氣，無需外接繁多的氣體 控制機件，為您降低投入成本

對部分重要部件具有獨立跟蹤檢測功能并及時提示，在確保正常運行的同時將零部件使 用時間*大化

氫氣發生器型號及技術規格:

型號	流速 cc/min	純度	H2干燥系統	壓力	尺寸 (W x H x D)	應用
MF.H2.110	110	> 99.99999 % (O2< 0.1 ppm, 露點< -75°C )	自動再生干燥柱 （免維護）	11 bar (160psi)	27 x 44 x 38 cm	GC載氣以及檢測器燃燒氣； GC-MS 載氣
MF.H2.170	170
MF.H2.260	260
MF.H2.300	300
MF.H2.400	400
MF.H2.500	500
MF.H2.600	600
MF.H2.1000	1000
MF.H2.1200	1200
MF.H2.1350	1350
MD.H2.110	110	>99.9996 % (O2<1 ppm, 露點< -55°C)	干燥劑筒 （手動更換）	7 bar (101 psi)	27 x 44 x 38 cm	GC檢測器燃燒氣
MD.H2.170	170
MD.H2.260	260
MD.H2.300	300
MD.H2.400	400
MD.H2.500	500
MD.H2.600	600
MB.H2.110	110	>99.9996 % (O2<1 ppm, 露點<-20°C)	特殊干燥膜 （免維護）	7 bar (101psi)	27 x 44 x 38 cm	GC檢測器燃燒氣
MB.H2.170	170
MB.H2.260	260
MB.H2.300	300	>99.9996 % (O2<1 ppm, 露點<-30°C)		11 bar (160psi)
MB.H2.400	400
MB.H2.500	500
MB.H2.600	600